サンプル表面を改質して洗浄する小型デスクトッププラズマ洗浄機。
用途:
・高分子材料表面の官能基付着→接着性、密着性向上。酸化反応により表面に−OHを生成し、>C=O,−COOHなどの官能基(微量の水分及び二酸化炭素影響)。
同様に窒素プラズマ中では、窒素原子が表面に吸収され、−NH 2などの官能基が生成される。
•シリコンウエハエッチング。
・材料表面改質(金属、ポリマー、フィルム、セラミックスなど)。
・アスベスト前処理(膜ろ過灰化)。
・電子機器からバイオ市場へ。
•低温灰化(高分子材料、石炭、食品など)。
•ガラスとPDMSボードを用いてPDMSチップを貼り付ける。
・表面有機物除去。
特徴:
•RFが200 Wの高性能出力タイプ(PR 200)。
•コンパクトサイズのデスクトップなので、小さな場所にも設置できます。
•同期、自動チューニング、操作が簡単(PR 200)。
•プラズマ反応器(アッシング装置)(PR 200)。
•同期、自動チューニング(PR 200)。
製品の利点:
●プラズマ洗浄機は洗浄効果がよく、洗浄効率が高く、パワーが大きく、応用範囲が広い。
●洗浄サンプルに対して、材質、外観寸法などの要求は一切ありません。
●プラズマ洗浄中、温度上昇が小さく、ほぼ常温処理に達することができる。
・高効率の特製電極は、均一なプラズマを生成する保証である。
●特製電極とパレット構造で、サンプルが全面的に有効な洗浄を受けることを保証することができる。
仕様:
モデル |
PR200 |
PR301 |
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モード |
DPモード、円筒キャビティ |
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パフォーマンス |
ジェネレータ電力: |
0-200W |
0-300W |
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ジェネレータ周波数: |
無線周波数RF 13.56 Mhz |
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ジェネレータマッチング方式: |
自動照合(Auto matching) |
手動照合(manul)
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構成 |
キャビティマテリアル: |
高ほう素シリコンガラス |
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キャビティ内の寸法: |
φ100×L160mm |
φ118×L160mm |
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反応ガス: |
プロセスガスは、酸素、アルゴン、窒素などの非腐食性ガスを支持することができる。 |
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制御方法: |
はんじどうせいぎょ |
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真空度表示: |
空洞内の真空度をリアルタイムで表示するデジタルピラニセンサー。 |
アナログ圧力計 |
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配管マテリアル: |
SUSステンレス鋼及びテフロン |
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ドア: |
ヒンジドア |
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外形寸法: |
W350×D400×H500mm |
W438×D520×H630mm |
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真空ポンプのポンプ速度: |
4m3/hour |
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電源仕様: |
AC220V 10A |
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重量: |
約25 kg |
約34 kg |
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付属品 |
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真空管部品一式、真空継ぎ手一式、試料トレイ一枚。 |